يقال إن Aixtron ، المزود الرائد في العالم لمعدات الترسيب لصناعة أشباه الموصلات ، قالت إن Plessey قد أمرت بمفاعل AIX G5 + C الكواكب. تخطط شركة Plessey لاستخدام نظام ترسيب البخار العضوي الكيميائي (MOCVD) لزيادة سعة الرقاقات الفوقية المصنوعة من السيليكون على GaN (GaN-on-Si) لتطبيقات MicroLED من الجيل التالي.
يوفر نظام AIX G5 + C MOCVD وحدة تحويل رقاقة كاسيت أوتوماتيكية (C2C) مع خيارين مستقلين لتهيئة الحجرة للرقائق 8 * 6 "أو 5 * 8" GaN-on-Si في عملية تحميل وإغلاق أوتوماتيكية مغلقة في بيئة كاسيت .
وقال Ai Siqiang أن تقنية التنظيف الآلي لمنصة المفاعل الجديدة تضمن تنظيف المعدات في كل مرة تعمل فيها ، مما يساعد على تقليل معدلات عيب الرقاقة والحد بشكل كبير من وقت التوقف عن العمل. كما تتميز الماكينة الجديدة بنهاية وسرعة تبريد أعلى ودرجة حرارة تفريغ مستقبلة أعلى لتقليل وقت الوصفة.
وستدعم منصة AIX G5 + C Reactor خطط Plessey لزيادة قدرات R & D Micro-RED أحادي الشريحة باستخدام تقنية GaN-on-Si الخاصة بالشركة.
يقول Plessey إن MicroLEDs لها سطوع عالي للغاية وكثافة بكسل وتستهلك طاقة قليلة جدًا. هذه الخصائص الأداء لديها القدرة على التأثير على عدد من التطبيقات الموجودة في تقنيات العرض التقليدية ، بما في ذلك شاشات الكريستال السائل و OLEDs. تجمع شاشة MicroLED هذه صفيف RGB بكسل عالي الكثافة مع لوحة الكترونية معززة CMOS لتوفير مصادر صور فائقة السطوع ومصادر طاقة منخفضة ومعدل إطارات مرتفع للأجهزة الإلكترونية القابلة للارتداء وشاشات محمولة على الرأس بالإضافة إلى الواقع المعزز وأنظمة الواقع الافتراضي.
